AI요약

기존의 포토리소그래피 방식은 고종횡비의 미세패턴을 나노 수준으로 정밀하게 구현하는 데 한계가 있었습니다. 이를 해결하기 위해 본 기술은 마이크로렌즈 어레이(MLA)와 자가 성장 광도파로(SPPW) 공정을 융합한 제조장치를 제안합니다. 광원이 마이크로렌즈를 통해 빛을 집속하면 광경화성 레진 내에서 굴절률 변화가 일어나 빛이 확산되지 않고 수직으로 길게 성장하며 미세패턴을 형성합니다. 이 기술을 통해 75대 1 이상의 고종횡비를 가진 나노 패턴을 대면적 기판에 마스크 없이 한 번의 공정으로 제작할 수 있습니다. 이는 바이오 센서, 약물 전달용 마이크로니들, 초발수 표면 등 다양한 고성능 소자 제작의 생산 효율과 경제성을 극대화하는 솔루션입니다.